网科技讯 8月2日，冲绳科学工夫大学院大学（OIST）的教师新竹俊（Tsumoru Shintake）提议了一种极紫外（EUV）光刻工夫。基于这种策动的EUV光刻工夫不错使用更小的EUV光源责任，从而裁汰本钱，显耀普及机器的可靠性和使用寿命。而在消费电量上不到传统EUV光刻机的十分之一一本道电影，有助于半导体行业变得愈加环境可抓续。
据了解，该工夫能获取蹂躏，是因为它措置了该限制之前被以为无法克服的两个问题。第一个是仅由两个镜子构成的新式光学投影系统。第二个是高效地将EUV光平直映照到平面镜（光掩模）上的逻辑图案上的新智商，而不会违反光学旅途。
制造用于东谈主工智能（AI）、迁移缔造（如手机）的低功耗芯片，以及平淡必需的高密度DRAM存储器的先进半导体芯片，都依赖于EUV光刻工夫。但是，半导体分娩靠近的挑战包括高功耗和缔造的复杂性，这显耀增多了安设、珍惜和电力消费的本钱。正如新竹教师所说，“这项发明是一项蹂躏性工夫，险些不错彻底措置这些鲜为东谈主知的问题。”
传统的光学系统，如相机、千里镜和老例的紫外线光刻，其光学元件（如光圈和镜头）是沿中心轴轴对称罗列的，这确保了最高的光学性能和最小化的光学像差。然则，这并不适用于EUV射线，因为它们波长极短，被大大都材料经受，无法通过透明镜头传播。因此，EUV光是通过月牙形的镜子反射的，这些镜子沿光路在绽放空间中以之字形反射直快。但是，这种智商使直快偏离中心轴，罢休了费事的光学特色，裁汰了系统的举座性能。
亚洲成人论坛这项新工夫通过将两个具有轻微中心孔的轴对称镜子对皆成一直线，完好意思了优厚的光学特色。
由于EUV光的高经受性，每次通过镜子反射时能量会放松40%。在行业尺度中，唯有大要1%的EUV光源能量通过使用的10个镜子到达晶圆，这意味着需要相等高的EUV光源输出。比拟之下，通过将从EUV源到晶圆的镜子总额甩手为四个，逾越10%的能量不错传递，这意味着即使是输出几十瓦的小EUV源也不错一样有用责任，这不错显耀裁汰电力使用。
EUV光刻的中枢投影仪，将光掩模上的图像迁移到硅晶圆上，只由两个反射镜子构成，访佛于天文千里镜。这种建树相等通俗，因为传统投影仪至少需要六个反射镜子。这是通过仔细再行想考光学的像差编削表面完好意思的。
新竹俊教师通过策动一种名为“双线场”的新照明光学智商措置了问题，该智商从正面映照EUV光到平面镜光掩模上，而不搅扰光路。
冲绳科学工夫大学院大学仍是为这项工夫苦求了专利，瞻望将通过演示履行参预本色使用。瞻望人人EUV光刻商场将从2024年的89亿好意思元增长到2030年的174亿好意思元，年均增长率12%，而这项专利有望产生强大的经济效益，（作家/于雷）
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